滁州真空镀加工厂家-真空镀加工厂家-宏镒行

真空镀膜的物理过程

pvd（物理气相沉积技术）的基本原理可分为三个工艺步骤：

（1）镀料的气化：即镀料的蒸发、升华或被溅射从而形成气化源

（2）镀料粒子（（原子、分子或离子）的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞，产生多种反应。

（3）镀料粒子在基片表面的沉积

薄膜的形成顺序为：具有一定能量的原子被吸附***形成小原子团***临界核***小岛***大岛***岛结合***沟道薄膜***连续薄膜。因此薄膜的形成过程可分为四个阶段；临界核的形成；岛的形成、长大与结合；沟道薄膜的形成和连续膜的形成。

真空镀膜的工艺流程

真空镀膜的工艺流程一般依次为：前处理及化学清洗（表面打磨抛光喷砂，除锈除油去氧化层）***工件在真空中烘烤加热***亚离子辉光清洗***金属离子轰击***镀金属过渡层***镀膜（通入反应气体）***后处理（炉内钝化或出炉后钝化去应力或防止变色，过uv做防指膜处理等）。

一、真空镀膜加工的镀层厚度均匀致密。 无论工件如何复杂，均可在工件上得到均一镀层，其镀层精度可达±1微米。

二、各种基体材料均可处理，包括金属、半导体及非金属。

三、与金属件结合强度高 一般强度在350-450mpa自然状态下不起皮、不脱落。即可保持金属基件原有的机械性能，又 增加了镀件的耐磨性、耐腐蚀性。

四、耐腐蚀性强 金属件经表面处理后，由于表面形成了一种非晶态镀膜层，因为无晶界，所以抗腐蚀性能 优良。例如：在5%hci中，黄山真空镀加工厂家，含p分数为10.9%镍磷合金镀层的耐腐蚀层比icr18ni9ti不锈钢还高出 10

10%hci中则高出20倍以上。

五、真空镀膜加工的表面硬度高 化学镀镍层的硬度一般在hv300-600，高的甚至可达到hv700以上，而电镀镍的硬度仅为 hv160-180，显然化学镀镍层的硬度要远大于电镀层的硬度.而其化学镀镍层经过一定的热处理后，其硬度还可以提高，可达hv900以上。

六、自润滑性好 经合金镀液处理过的金属表面是一种非晶态，即处于基本平面状态，有自润滑性，因此摩擦 系数小，非粘着性好。

七、成本低廉深圳真空电镀厂合金镀不仅具备了以上传统电镀优点，且它的处理成本却与电镀相差无几，甚至 略低于电镀成本。

八、型 与电镀相比，不会产生对环境有害的物质，真空电镀加工厂家概述，代表了未来金属表面处理的发展方向，具有--- 的生命力。 化学镀是通过溶液中适当的还原剂使金属离子在金属表面的自催化作用下还原进行的金属沉积过程，也叫无电解电镀，自催化镀。 化学镀应用广泛的是化学镀镍，它是一种比较新的工艺技术。